Inkjet

Inkjet ist ein digitales Druckverfahren, das die kontaktlose und äußerst präzise Applikation von verschiedensten Fluiden (Tinten) in Tropfenform ermöglicht. Das Fraunhofer ISE hat langjährige Erfahrung in der Entwicklung von Druckprozessen, bei denen nano-skalige Metallpartikel, Perowskite, wachsartige Galvanik- und Ätzbarrieren (auch UV-härtende), sowie Dotierstoffe mit höchster Ressourceneffizienz und Präzision verdruckt werden. Zwecks adäquater Benetzung von Tinten auf Substraten bietet das Fraunhofer ISE das vollständige Portfolio für die Charakterisierung von Medien hinsichtlich Viskosität und Oberflächenspannung an. Durch den Einsatz von Inkjet-Druckern in Glove-Boxen kann die Umgebung hinsichtlich der Benetzung angepasst werden. Ebenso bietet das Fraunhofer ISE Vorprozesse für die Aktivierung von Oberflächen, beispielsweise mittels Plasma.

Unsere Infrastruktur und Serviceleistungen für Inkjet:

  • Diverse Aufbauten (auch Glove-Box) mit verschiedenen Druckköpfen für die Entwicklung von Inkjet Druckprozessen (Semi-industrielle Anlagen, Laboranlagen)
  • Prozessintegration von Inkjet Druckprozessen in die Kernanwendungen des Fraunhofer ISE (wie Silizium-basierte Solarzellen)
  • Entwicklung von Komponenten für die Konditionierung von Substraten
  • Rheologische Untersuchungen an Tinten in Inkjet-relevanten Frequenzbereichen (1 kHz)
Solarzellendruck an Inkjet Aufbauten am Fraunhofer ISE. Dabei werden vier industrielle Solarzellen in einem Prozess verarbeitet, um den Durchsatz zu erhöhen.
© Fraunhofer ISE / Foto: Dirk Mahler

Solarzellendruck an Inkjet Aufbauten am Fraunhofer ISE. Dabei werden vier industrielle Solarzellen in einem Prozess verarbeitet, um den Durchsatz zu erhöhen.
Aufsicht auf eine mittels Inkjet gedruckte Galvanikbarriere (Maskierung) mit einer Strukturbreite der Öffnung von 10.5 µm nach der Mask&Plate-Technologie. Neben der Anwendung Galvanikbarriere können die Inkjet-gedruckten Strukturen auch als Ätzbarriere eingesetzt werden.
© Scientific Reports, volume 13, article number 15745 (2023)(CC BY 4.0) Aufsicht auf eine mittels Inkjet gedruckte Galvanikbarriere (Maskierung) mit einer Strukturbreite der Öffnung von 10.5 µm nach der Mask&Plate-Technologie. Neben der Anwendung Galvanikbarriere können die Inkjet-gedruckten Strukturen auch als Ätzbarriere eingesetzt werden.
Mit Inkjet definierte Galvanikelektrode nach der Mask&Plate-Technologie zur Kontaktierung von hocheffizienten Solarzellen (Hier: III-V Solarzellen).
© Scientific Reports, volume 13, article number 15745 (2023)(CC BY 4.0) Mit Inkjet definierte Galvanikelektrode nach der Mask&Plate-Technologie zur Kontaktierung von hocheffizienten Solarzellen (Hier: III-V Solarzellen).

Weitere Informationen zu diesem Forschungsthema

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