Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISERotationsdruckverfahren wie Flexodruck, Rotationssiebdruck und Tiefdruck werden in einer Vielzahl industrieller Anwendungen im grafischen und technischen Bereich seit Jahrzehnten eingesetzt. Rotationsdruckverfahren sind einzigartig im Hinblick auf Geschwindigkeit, Präzision und Flexibilität. Üblicherweise werden mit Rotationsdruckverfahren bahnförmige Substrate bedruckt. Wesentlich anspruchsvoller ist hingegen der Druck auf nicht-biegsames Stückgut wie z.B. Silizium-Solarzellen, Leiterplatten, elektronische Bauelemente oder Chipkarten. Die Beschichtung solcher Substrate mit hoher Druckgeschwindigkeit erfordert ein hochpräzises Transportsystem und eine genaue Ausrichtung der Rotationsdruck-Einheiten.
Eine solche Technologie wurde am Fraunhofer ISE in Zusammenarbeit mit Projektpartnerinnen und -partnern für die Metallisierung von Silizium-Solarzellen und weiteren funktionalen Anwendungen entwickelt. Der Einsatz von Rotationsdruckverfahren verbindet die hochpräzise Übertragung feinster Strukturen mit einem hohem Durchsatz und damit einer substantiellen Produktivitätssteigerung. Auch über die Metallisierung von Silizium-Solarzellen hinaus bietet diese Technologie ein großes Potential für verschiedenste Anwendungen im Bereich des funktionalen und technischen Drucks.
