Nass- und trockenchemische Verfahren

Unsere nass- und trockenchemischen Verfahren zielen allesamt darauf ab, perfekt strukturierte und konditionierte Oberflächen für die Herstellung von Solarzellen zu schaffen. Die Strukturierung wird mit Ätzprozessen durchgeführt, die Konditionierung umfasst Reinigungsprozesse.

Ätzprozesse können trockenchemisch durch Reaktion mit elementarem Fluor ausgeführt werden, weiterhin gibt es nasschemische Ätzprozesse welche in der Regel in einer heißer Prozesslösung erfolgen. Ein solcher Strukturierungsprozess ist der alkalische Texturprozess, bei dem die Oberfläche von Siliziumwafern mit einer Mikropyramidenstruktur versehen wird, was die optischen Eigenschaften der Zelle verbessert. Für diese Prozesse im Batch-Verfahren erforschen wir Ansätze mit neuartigen Chemikalienrezepturen sowie die Verbesserungen der Spülprozesse zur Steigerung der Ressourceneffizienz. Kurze, einseitige Ätzprozesse werden im inline-Verfahren durchgeführt, Hierbei werden die Wafer horizontal transportiert, kommen aber nur an der Unterseite mit dem Ätzmedium in Berührung. Unsere Arbeiten zielen darauf ab, durch eine Verbesserung der Anlagentechnologie die Einseitigkeit der Prozesse zu verbessern und den Durchsatz der Anlagen zu steigern. Auch metallische Leiterbahnen können in nasschemischen (galvanischen) Verfahren erzeugt werden. Unsere Arbeiten zielen darauf ab, Kontakte von höchster Qualität bei geringer Prozesskomplexität abzuscheiden. Gleichzeitig ersetzen wir kostspieliges und knappes Silber durch Kupfer. 

Flankiert werden die Arbeiten durch CFD-Simulationen, mit denen wir Strömungen und Reaktionen in Anlagen darstellen und verbessern können. Ein neues Arbeitsfeld ist die nasschemische Abscheidung von Schichten. Hier stehen aktuelle die Sprüh-(pyrolytische) Deposition von Antireflexionsschichten und von Perowskitschichten im Vordergrund.