Sieb- und Schablonendruck

Flachbett-Siebdruck und Schablonendruck wird seit Jahrzehnten erfolgreich in zahlreichen grafischen und technischen Anwendungsfeldern eingesetzt. Bekannte Anwendungsbeispiele sind der Druck von Lotpaste für die SMT-Bestückung von Leiterplatten, die drucktechnische Realisierung feiner Heizungsstrukturen auf Fahrzeugscheiben oder der Druck von Antennenstrukturen mit leitfähiger Paste. Auch für die Metallisierung von Silizium-Solarzellen hat sich der Flachbett-Siebdruck aufgrund der hohen Produktivität und der Möglichkeit zum Druck feiner Strukturen mit hoher Qualität bereits in den 1980er-Jahren in der industriellen Produktion als dominierendes Metallisierungsverfahren durchgesetzt. Gegenüber anderen Druckverfahren zeichnen sich der Sieb- und Schablonendruck durch die hohe Produktivität und eine große Flexbilität in Bezug auf Substrate und Pasten aus. Sowohl großflächige Strukturen als auch feinste Leiterbahnen können mit beiden Verfahren in hervorragender Qualität und mit sehr guten elektrischen Eigenschaften realisiert werden.  

Am Fraunhofer ISE arbeiten wir seit Jahrzehnten gemeinsam mit unseren Industriepartnerinnen und -partnern intensiv an der Weiterentwicklung dieser bewährten und leistungsfähigen Verfahren. Im Fokus stehen dabei nicht nur die hochpräzise Metallisierung von Silizium-Solarzellen mit feinsten Linien, sondern auch weitere vielversprechende Anwendungen wie die drucktechnische Beschichtung von Brennstoffzellen, Sensoren und weiteren technischen Anwendungen.