Fraunhofer ISE Spin-off NexWafe GmbH schließt Finanzierung in Höhe von 8 Millionen Euro ab

11.12.2017

NexWafe GmbH kommerzialisiert eine am Fraunhofer ISE entwickelte Technologie zur epitaktischen Herstellung von Siliciumwafern für Photovoltaik. Heute gab das junge Unternehmen den Abschluss einer Finanzierung in Höhe von 8 Millionen Euro bekannt. Die Mittel werden für die Inbetriebnahme der neuen 5MW-Waferproduktion von NexWafe in Freiburg und für erste Qualifikationen der Wafer durch Kunden verwendet.

EpiWafer Produktionslinie
© NexWafe

EpiWafer Produktionslinie der Firma NexWafe in Freiburg.

Bei dem bahnbrechenden EpiWafer-Verfahren der NexWafe GmbH werden kristalline Siliciumschichten beliebiger Dicke auf einem Saat-Wafer gewachsen und anschließend ohne Sägeverlust zu einem freistehenden Wafer abgelöst. NexWafe beliefert Solarzellenhersteller mit monokristallinen Siliciumwafern höchster Qualität, die vollständig kompatibel mit den Standardprozessen der Zell- und Modulherstellung sind.