High-Speed-Laser-Processing

Moderne Ultrakurzpulslaser erreichen zwar beispiellose Leistungsniveaus, doch um ihr volles Potenzial für industrielle Anwendungen auszuschöpfen, sind Fortschritte bei der Strahlführung und Automatisierung der Prozesse erforderlich. Herkömmliche Systeme stoßen bei der Scangeschwindigkeit, der Genauigkeit bei der Positionierung sowie beim Wärmemanagement an ihre Grenzen. Das gilt insbesondere für die Verarbeitung großflächiger Substrate.

Wir haben eine dynamische Verarbeitungsarchitektur entwickelt, die Polygonscannen (Scangeschwindigkeiten > 1 km/s), Echtzeit-Werkstückverfolgung und adaptive Strahlsteuerung kombiniert, um einen 8-mal höheren Durchsatz zu erzielen, als herkömmliche Galvanometersysteme.


Zu den wichtigsten Innovationen gehören:

  • Großflächige Verarbeitung mit Scanfeldern >200mm bei Spotgrößen <10 μm, Gleichmäßigkeit im Wafermaßstab <2 % Abweichung für Substrate über 210 mm
  • Synchronisierte NIR/UV-Ultrakurzpulse für Kontaktöffnungsgeschwindigkeiten von über 500.000 Löchern/Sekunde

Unsere Laborinfrastruktur hat eine rekordverdächtige Leistungsfähigkeit in der Photovoltaikfertigung unter Beweis gestellt, darunter eine Verarbeitungsrate von 15.000 Wafern pro Stunde für PERC-Solarzellen.

Für funktionale Oberflächenmodifikationen integrieren wir außerdem DLIP (Direct Laser Interference Patterning) mit hochenergetischen, gepulsten Lasern, um periodische Strukturen zu erzeugen. Diese Fähigkeit ermöglicht die kostengünstige Produktion von antireflektierenden, selbstreinigenden oder tribologisch optimierten Oberflächen.


Unsere Lösungen schließen die Lücke zwischen FuE im Labormaßstab und der Serienproduktion:

  • Modulare Werkzeugkonzepte, kompatibel mit Roll-to-Roll- und Fördersystemen
  • Integration von Sensoren und Aktoren zur On-the-Fly-Werkstückerkennung, Werkstückverfolgung und Prozesssteuerung


Unsere FuE-Angebote für die Industrie umfassen:

  • Nutzung ultrakurzer Laserpulse für Ihre industrielle Anwendung
  • Integration optischer Positionssensoren in Ihre Laserprozesse für Echtzeit-Positionsrückmeldung
  • Kundenspezifische Sensorikentwicklung für Präzision und Effizienz Ihrer Werkstücke
  • Optimierung Ihrer Verarbeitungsstrategie
Laser-Bearbeitung von Solarzellen im laufenden Betrieb.
© Fraunhofer ISE
Laser-Bearbeitung von Solarzellen im laufenden Betrieb.
Schematische Darstellung der On-the-Fly-Bearbeitung mit einem Polygonscanner. Das Werkstück wird auf einem Förderband unterhalb des Scanners transportiert. Seine Position wird durch optische Sensoren erfasst und Signale für den Laser und den Scanner werden generiert.
© Fraunhofer ISE
Schematische Darstellung der On-the-Fly-Bearbeitung mit einem Polygonscanner. Das Werkstück wird auf einem Förderband unterhalb des Scanners transportiert. Seine Position wird durch optische Sensoren erfasst und Signale für den Laser und den Scanner werden generiert.
UV-Polygonscanner für starke Fokussierung und großflächige Bearbeitung bei höchstem Durchsatz.
© Fraunhofer ISE
UV-Polygonscanner für starke Fokussierung und großflächige Bearbeitung bei höchstem Durchsatz.

Video: Hochdurchsatz-Laserbearbeitung

Datenschutz und Datenverarbeitung

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Language: English | Duration: 0:56 Min.

Unsere On-the-Fly-Laserbearbeitungstechnologie ermöglicht einen Durchsatz von bis zu 15.000 Siliziumwafer-basierten Solarzellen pro Stunde und Scanner. Wir haben eine Kombination aus intelligenten Sensoren und polygonbasiertem Laserscanning mit Ablenkgeschwindigkeiten von bis zu 1000 m/s entwickelt, um eine fast um eine Größenordnung höhere Produktivität im Vergleich zu herkömmlichen Systemen zu erreichen.

Der im Video gezeigte Prozess wird als Laser-Kontaktöffnung bezeichnet. Er wird bei den meisten heute hergestellten Solarzellen angewendet.

Weitere Informationen zu diesem Forschungsthema:

 

Photovoltaic Technology Evaluation Center

PV-TEC

Produktionstechnologie und Messtechnik für kristalline Siliziumsolarzellen

 

Forschungsprojekt

Miracle

Hochdurchsatz-Mikroablation für das Electroplating der Solarzellen der nächsten Generation

 

News

Laseranlage

für große Wafer-Formate verbindet hohen Durchsatz mit Präzision