Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE
In unserem Reinraumlabor prozessieren wir epitaxierte Wafer zu funktionalen Bauelementen. Hierzu steht eine moderne Infrastruktur in unserem »Zentrum für höchsteffiziente Solarzellen« zur Verfügung. Die Waferprozessierung ist ausgelegt für 8×4-Zoll- oder 8×6-Zoll-Chargen.
Die in unseren Laboren verfügbaren und angewandten Prozesse umfassen:
- Photolithographie zur Mikrostrukturierung
- Nano-imprint-Lithographie
- Abscheidung metallischer und dielektrischer Schichten
- Nass- und trockenchemische Prozesse zur Strukturierung
- Wafer-Bonding (u.a. GaAs, InP, GaSb, Si, Ge)
- Chemisch-mechanisches Polieren (chemical mechanical polishing)
- Oberflächenreinigung
- Diverse Charakterisierungswerkzeuge zur Struktur- und Oberflächenanalyse und Qualitätssicherung